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nanoArch R S140

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更新時(shí)間：2021-12-30 15:35:37瀏覽次數(shù)：565次

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產(chǎn)品簡介

nanoArch R S140

詳細(xì)介紹

nanoArchR S140 系統(tǒng)簡介

nanoArch S140是可以實(shí)現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。

nanoArchR S140 系統(tǒng)性能

性能參數(shù)	nanoArch S140 產(chǎn)品規(guī)格
光源	UV-LED(405nm)
打印材料	光敏樹脂
光學(xué)精度	10μm
打印層厚	10~40μm
打印樣品尺寸	模式1：單投影模式：19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H) 模式2：拼接模式：94mm(L)×52mm(W)×45mm(H) 模式3：重復(fù)陣列模式：94mm(L)×52mm(W)×45mm(H)
打印文件格式	STL
系統(tǒng)外形尺寸	1000mm(L)×700mm(W)×1600mm(H)
機(jī)器外形尺寸	650mm(L)×650mm(W)×750mm(H)
重量	245kg
電氣要求	220~240V AC,50/60HZ,2KW