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XRF(X 射線熒光)技術(shù)
XRF(X 射線熒光)是一種用于測定材料中元素組成的無損分析技術(shù)。XRF 技術(shù)通過分析可樣品由一級 X 射線源激發(fā)而散射出的熒光(或二級)X 射線,來確定樣品的化學(xué)屬性。樣品中的每一種元素受激發(fā)后都會產(chǎn)生一組特定的熒光 X 射線(“指紋”),因此對于材料化學(xué)成分定量及定性分析而言,XRF 光譜法是一種非常好的技術(shù)。
X 射線熒光過程
1. 用受控 X 射線管發(fā)出的高能 X 射線照射固體或液體樣品。
2. 當(dāng)樣品中的某個原子被能量充足(大于原子的 K 或 L 殼層結(jié)合能)的 X 射線撞擊時,就會從原子的一個內(nèi)軌道殼層中逐出一個電子。
3. 原子恢復(fù)穩(wěn)定性,并使用來自原子更高能量軌道殼層之一的電子內(nèi)軌道殼層的空缺。
4. 電子通過釋放熒光 X 射線降至較低能量狀態(tài)。該 X 射線的能量等于電子兩個量子態(tài)之間的特定能量差。這種能量的測量是 XRF 分析的基礎(chǔ)。

XRF 光譜解讀
大多數(shù)原子都有幾個電子軌道(例如 K 殼層、L 殼層、M 殼層)。當(dāng) X 射線能量導(dǎo)致電子進(jìn)出這些殼層時,會產(chǎn)生強度不同的 XRF 峰,并且將以圖表形式在光譜中顯示 X 射線強度峰與能量峰的函數(shù)關(guān)系。峰能量用于識別元素,峰高度/強度通常表示其濃度。
能量色散 X 射線熒光 (EDXRF)
EDXRF 是便攜式 X 射線熒光分析儀中常用的技術(shù)。EDXRF 設(shè)計用于同時分析多組元素,以便快速測定樣品中的相應(yīng)元素及其相對濃度,換句話說,即樣品的元素化學(xué)成分。
欲了解如何使用這些信息,請參考廢金屬。回收商需要正確識別多種合金等級,在材料轉(zhuǎn)移點快速分析其化學(xué)成分,并向客戶保證產(chǎn)品的質(zhì)量。金屬合金專為不可互換的特殊功能而設(shè)計;成分的微小變化就會導(dǎo)致明顯不同的機械性能。幸運的是,手持 XRF 分析儀可以很容易地區(qū)分這些等級。


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