法國Elveflow 最新款流量控制器OB1 MK4
不要讓儀器成為限制研究的條件!!
Elveflow 專注開發適用于微流體研究的高性能和即插即用的流量控制系統。
同類產品響應快、精度高的壓力/流量控制器。
微流體前沿的壓電控制技術。
獨特的性能
壓力穩定性 0.005 % FS
響應時間 9 ms
壓力分辨率 0.003 % FS
穩定時間 低至 35 ms
技術規格
特點與優勢
壓電技術,在微型設備中進行快速、準確的改變
通過儀表板控制全體儀器。強大的腳本模塊,可在數天內自動控制和注入
開箱即用,幾分鐘內完成全體設置
確保在寬的流量范圍內具有出色的控制性能,壓力穩定性低到10µbar
軟件開發工具包 (C++、Python、MATLAB®和LabVIEW®庫)
在5種可選壓力范圍內選擇任一通
向軟件輸入流量值。流量低至7.5 nL/min
采樣率高達10ms,可獲得最佳結果
先使用一個通道,后續加入更多通道
服務
為客戶和合作伙伴提供個性化的專業建議
創建技術參數
風險管理和分析
機械、電子和軟件的開發與生產
原型機開發設計
Beta 測試、故障排除和持續改進
從限定系列到大規模的生產
維護,支持和培訓
系統的升級
應用
數字微流控
流動化學 & 聚合物合成
細胞培養: 細胞灌注, 順序注射
液滴測序: RNA 測序
器官芯片
提高油的回收
芯片實驗室
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2026第二屆激光制造與增材制造創新發展大會暨展覽會
展會城市:北京市展會時間:2026-09-21